T_GVS 017—2024_连续式光学磁控溅射镀膜设备.pdf
<h3>一、基本信息</h3><p>文档名称：T_GVS 017—2024_连续式光学磁控溅射镀膜设备</p>
<p>文档格式：pdf格式</p>
<p>文档大小：0.57MB</p>
<p>总页数：10页</p>
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<h3>二、简介</h3>
<p>《T_GVS 017—2024_连续式光学磁控溅射镀膜设备》是一项针对连续式光学磁控溅射镀膜设备的技术规范。该标准规定了设备的结构组成、技术要求、测试方法及检验规则，适用于光学薄膜制备领域的连续生产过程。标准旨在提升设备的稳定性、均匀性和生产效率，确保镀膜质量符合行业应用需求。通过规范设备性能指标和操作流程，该标准为相关企业的技术研发、产品检测和市场准入提供了重要依据，推动了光学镀膜行业的标准化与高质量发展。</p>
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<h3>三、预览</h3>
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