T_STIC 110096—2024_半导体用多级罗茨干式真空泵.pdf
<h3>一、基本信息</h3><p>文档名称：T_STIC 110096—2024_半导体用多级罗茨干式真空泵</p>
<p>文档格式：pdf格式</p>
<p>文档大小：0.46MB</p>
<p>总页数：10页</p>
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<h3>二、简介</h3>
<p>《T_STIC 110096—2024_半导体用多级罗茨干式真空泵》是一项针对半导体制造领域中关键设备的技术规范。该标准规定了多级罗茨干式真空泵的设计、性能、测试方法及应用要求，旨在提升半导体生产过程中的真空环境控制精度与稳定性。标准适用于半导体工艺中需要高真空条件的场合，如薄膜沉积、刻蚀等。通过统一技术指标和检测流程，有助于提高设备的可靠性与兼容性，推动行业标准化发展。同时，该标准也为制造商提供了明确的技术指导，促进了产品质量的提升和市场竞争力的增强。</p>
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<h3>三、预览</h3>
<img src="https://d.z3060.com/docthumbnail/202509/06/vvi4pdjn01h.webp" title="T_STIC 110096—2024_半导体用多级罗茨干式真空泵" alt="T_STIC 110096—2024_半导体用多级罗茨干式真空泵">
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