SiO2溅射功率对Fe40Co40B20SiO2软磁纳米颗粒膜磁性能的影响
文档名：SiO2溅射功率对Fe40Co40B20SiO2软磁纳米颗粒膜磁性能的影响
摘要：用磁控溅射法沉积Fe40Co20B20-SiO2软磁纳米颗粒膜,对其微观结构和磁性能进行了分析.研究发现,随着SiO2溅射功率的增高,Fe40Co20B20-SiO2薄膜粗糙度、截止频率、磁导率、饱和磁化强度均降低,薄膜电阻率增大.在SiO2溅射功率为500W时,Fe40Co20B20-SiO2薄膜电阻率高达1973μΩ·cm,且截止频率也高达3.67GHz.相较于未添加SiO2的薄膜,其电阻率有了显著提升,且同样拥有较高的截止频率.因此,通过该方法制备的Fe40Co20B20-SiO2薄膜可有效应用于GHz频段的软磁薄膜电感.
Abstract：Fe40Co20B20-SiO2thinfilmsweredepositedbymagnetronsputtering,andtheirmicrostructureandmagneticpropertieswereanalyzed.ItwasfoundthatwiththeincreaseofSiO2sputteringpower,theroughness,ferromagneticresonancefrequency,permeabilityandsaturationmagnetizationofFe40Co20B20-SiO2filmsdecrease,andtheresistivityofthefilmsincreases.WhentheSiO2sputteringpoweris500W,theresistivityofFe40Co20B20-SiO2filmisashighas1973μΩ·cm,andthecut-offfrequencyisashighas3.67GHz.ComparedwiththatoffilmwithoutSiO2,itsresistivityhasbeengreatlyimproved,andcutofffrequencyincreasesslightly.Therefore,theFe40Co20B20-SiO2thinfilmpreparedbythismethodcanbeeffectivelyappliedtothesoftmagneticthinfilminductorinGHzband.
作者：蒋云川余忠李启帆邬传健蒋晓娜孙科兰中文Author：JIANGYun-chuanYUZhongLIQi-fanWUChuan-jianJIANGXiao-naSUNKeLANZHONG-wen
作者单位：电子科技大学材料与能源学院,四川成都610054
刊名：磁性材料及器件
Journal：JournalofMagneticMaterialsandDevices
年，卷(期)：2024, 55(2)
分类号：TM271+.2
关键词：Fe40Co20B20-SiO2薄膜磁控溅射SiO2溅射功率磁性能电阻率截止频率
Keywords：Fe40Co20B20-SiO2filmmagnetronsputteringSiO2sputteringpowermagneticpropertiesresistivitycut-offfrequency
机标分类号：TN304.055O484.1TM277
在线出版日期：2024年5月20日
基金项目：SiO2溅射功率对Fe40Co40B20-SiO2软磁纳米颗粒膜磁性能的影响[
期刊论文]磁性材料及器件--2024, 55(2)蒋云川余忠李启帆邬传健蒋晓娜孙科兰中文用磁控溅射法沉积Fe40Co20B20-SiO2软磁纳米颗粒膜,对其微观结构和磁性能进行了分析.研究发现,随着SiO2溅射功率的增高,Fe40Co20B20-SiO2薄膜粗糙度、截止频率、磁导率、饱和磁化强度均降低,薄膜电阻率增大.在SiO2溅射功率...参考文献和引证文献
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