EDTA对氯化胆碱乙二醇低共熔溶剂中铜电沉积行为的影响
文档名：EDTA对氯化胆碱乙二醇低共熔溶剂中铜电沉积行为的影响
摘要：分别采用紫外-可见分光光度法(UV-Vis)、循环伏安法(CV)、计时电流法(CA)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)等技术,研究了乙二胺四乙酸(EDTA)对铜在氯化胆碱-乙二醇(ChCl-EG)低共熔溶剂中的电化学行为,不同电位阶跃下的电结晶机理,以及对铜镀层微观形貌和物相组成的影响.结果表明,EDTA的加入导致溶液中配合物形式发生了转变,2-中的Cl-被EDTA取代,使铜物种更加稳定.EDTA的加入不会影响铜的成核方式,但会导致铜镀层的微观形貌发生变化,由大块不规则颗粒变为均匀细小的球状结构,使铜镀层更加均匀致密.
作者：张司琪徐铭孝毕铭雪孙海静孙杰Author：ZHANGSiqiXUMingxiaoBIMingxueSUNHaijingSUNJie
作者单位：沈阳理工大学环境与化学工程学院,辽宁沈阳110159
刊名：电镀与涂饰 ISTICPKU
Journal：Electroplating&Finishing
年，卷(期)：2023, 42(24)
分类号：TQ153
关键词：铜电沉积低共熔溶剂乙二胺四乙酸微观结构成核机理
Keywords：copperelectrodepositiondeepeutecticsolventethylenediaminetetraaceticacidmicrostructurenucleationmechanism
机标分类号：TQ153.2O646TG174
在线出版日期：2024年1月24日
基金项目：沈阳理工大学高水平成果建设项目，沈阳理工大学科研创新团队支持项目，水改性低共熔溶剂中Zn-Ni合金的可控制备及电沉积机理研究EDTA对氯化胆碱-乙二醇低共熔溶剂中铜电沉积行为的影响[
期刊论文]电镀与涂饰--2023, 42(24)张司琪徐铭孝毕铭雪孙海静孙杰分别采用紫外-可见分光光度法(UV-Vis)、循环伏安法(CV)、计时电流法(CA)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)等技术,研究了乙二胺四乙酸(EDTA)对铜在氯化胆碱-乙二醇(ChCl-EG)低共熔溶剂中的电化学行为,不同电位阶跃下...参考文献和引证文献
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